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기술은 감각이다, 밀론 블로그
[Cryo Etch] Part 1. Etching 공정의 개요와 Cryo Etch 공정의 재조명[Cryo Etch] Part 2. Plasma Etching의 원리와 한계[Cryo Etch] Part 3. Cryogenic Etching의 원리와 등장 배경[Cryo Etch] Part 4. 산업 적용 사례 및 미래 전망[Cryo Etch] Part 5. 개인 정리 및 공부 방향[Cryo Etch] Part 6. 개인 정리 및 공부 방향 20. 복습이전 포스팅에서etch란 반도체의 '회로'를 파내는 작업이고,wet, dry 등의 방식이 존재하며,식각 속도와 선택성 등, 어떤 점이 고려해야 할 사항인지,그리고 왜 dry 방식을 애용하는지에 대해 살펴보았습니다.이번 포스팅에선 dry etch인 플라스마 식각에..
반도체/[공정 4] 식각 공정(etching process)
2025. 8. 1. 01:37